三星電子將2nm制程工藝視為當(dāng)前先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域的重要突破方向，并在產(chǎn)能布局和資源配置方面給予了高度重視。根據(jù)韓國媒體日前發(fā)布的消息，三星計(jì)劃最早于2026年1月至2月間，開始向其位于美國得克薩斯州泰勒的工廠引入用于2nm量產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備。該工廠原本規(guī)劃建設(shè)的是4nm產(chǎn)線，但鑒于市場需求和技術(shù)發(fā)展趨勢，已調(diào)整為優(yōu)先發(fā)展2nm工藝。

此前，由于先進(jìn)制程技術(shù)尚未完全成熟，該項(xiàng)目曾經(jīng)歷多次延期。不過，今年第二季度，泰勒工廠的潔凈室裝修工程已重新啟動(dòng)，并預(yù)計(jì)在今年底前完成。潔凈室的建設(shè)是后續(xù)設(shè)備進(jìn)場安裝的前提條件，因此這一進(jìn)展意味著項(xiàng)目正在逐步推進(jìn)。

另一方面，也有消息稱，為集中資源確保2nm工藝能在今年底前實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，三星對其原有的1.4nm研發(fā)計(jì)劃進(jìn)行了調(diào)整。原定于今年第二季度在平澤二號工廠啟動(dòng)的1.4nm測試線建設(shè)，已被推遲至今年底或明年年初進(jìn)行。這使得1.4nm工藝的量產(chǎn)時(shí)間可能延后至2028年。